Acquisition d'un cluster à 3 chambres de pulvérisation cathodique

L'objet de cette consultation est l'achat d'un cluster de dépôt de couches minces par la technique de pulvérisation cathodique. Ce cluster sera utilisé pour la recherche et le développement de nouveaux matériaux, et il doit être un équipement versatile et évolutif, répondant aux normes européennes de sécurité.

1. Descriptif technique de la demande

• Cluster de pulvérisation cathodique : Composé de 3 chambres indépendantes pour dépôts métalliques, d'oxydes et de nitrures, avec un robot pour le transfert sous vide des échantillons.
• Matériaux à déposer : Comprend SiO2, ITO, ZnO, Al2O3, TiO2, NbN, AlScN, TiN, etc.
• Applications : Multicouches antireflet, matériaux piézoélectriques, couches de passivation, etc.

2. Spécificités exigées de l'équipement

• SAS : Chargement/déchargement des wafers, avec un système de pompage pour atteindre un vide de 1x10-7 mbar.
• Robot : Transfert des palettes entre le sas et les chambres, avec des exigences de vide similaires.
• Chambres de dépôt : Conçues pour différents types de dépôts, avec des systèmes de pompage et de régulation de pression adaptés.

3. Prestations de services demandées

• Maintenance préventive : Détail des actions à effectuer, fréquence, pièces concernées et coût.
• Formation : Formation de 4 personnes pendant 5 jours sur l'utilisation et la maintenance de l'équipement.

4. Critères d'analyse

• Performances de l'équipement (15 %)
• Qualités et spécificités techniques (36 %)
• Prix (27 %)
• Maintenance et support technique (12 %)
• Critère environnemental (10 %)