Fourniture d’un équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma

Le marché porte sur les prestations suivantes :

• Acquisition de l'équipement PECVD :

  • Fourniture de la documentation technique.
  • Fourniture d’un catalogue de procédés, incluant les caractéristiques des films résultant des procédés réalisés avec la configuration proposée.
  • Installation de l’équipement dans la salle blanche du CEA.
  • Formation d'un groupe d'utilisateurs sur le fonctionnement de la machine.
  • Garanties de 2 ans couvrant les pièces, la main-d'œuvre et les déplacements.

• Description de l’équipement :

  • Capacité de dépôt de SiOx, SiNx, a-Si:H et a-SiC:H sur des échantillons de diverses natures et tailles.
  • Comprend un sas de chargement, une chambre de dépôt, un contrôle de température, des pompes, manomètres, et un système de nettoyage par plasma.
  • Documentation technique incluant schémas électriques et mécaniques.
  • Catalogue de procédés avec paramètres de dépôt et caractéristiques des matériaux.

• Livraison et installation :

  • Livraison des pièces et assemblage dans la salle blanche.
  • Tests d’acceptation en usine et sur site, avec rapport des résultats.

• Garanties et maintenance :

  • Garantie de 2 ans avec intervention sous 3 jours ouvrés en cas de dysfonctionnement.
  • Délai de remise en service de 10 jours ouvrés si l’équipement ne peut être réparé immédiatement.
  • Disponibilité des pièces de rechange pendant 10 ans.

• Prestations optionnelles :

  • Système de suivi de dépôt.
  • Contrat de maintenance annuel après expiration de la garantie.

• Considérations environnementales :

  • Conception pour fonctionner avec du silane dilué pour réduire les risques et les rejets de gaz dangereux.
  • Intégration d'une capacité d’auto-nettoyage pour minimiser l'utilisation de produits chimiques.