Fourniture de masques pour les opérations de photolithographie

Université Gustave Eiffel
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Date limite15 mai 2025
LocalisationChamps-sur-Marne (77)
Durée2 ans, renouvelable une fois pour 2 ans
BudgetEstimation: 300 000 €

Prestations techniques demandées

Les prestations techniques demandées dans le cadre de l'accord-cadre 2025FOUR006MLV incluent :

  1. Description technique des fournitures :

    • Les masques doivent être réalisés en sodalime white/chrome, avec des spécifications précises sur les dimensions, tolérances et vérifications des défauts.
    • Le nombre prévisionnel de masques commandés sera d’environ 100 unités par an, avec une majorité sur les références 1, 2, 6 et 7.
  2. Conditions d’exécution des prestations :

    • Les bons de commande seront établis par ESIEE Paris, et doivent inclure des informations spécifiques comme le nom du titulaire, la date, et les détails des produits à livrer.
    • Les délais de livraison sont fixés selon le nombre de niveaux de masques commandés : 6 jours pour 1-2 niveaux, 10 jours pour 3-5 niveaux, et 14 jours pour 6-8 niveaux.
    • Les livraisons doivent être effectuées à l'adresse de l'ESIEE Paris, entre 8h30 et 16h30, du lundi au vendredi.
    • Les masques seront vérifiés lors des opérations de photolithographie, et des pénalités seront appliquées en cas de retard dans l'exécution des prestations.
  3. Prix de l’accord cadre :

    • Les prix sont établis pour une durée initiale de deux ans, avec un montant maximum de 300 000,00 € H.T. Les prix sont révisables par référence au barème du titulaire, avec une clause limitative de sauvegarde.

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Critères d'évaluation

PondérationCritère

Échantillons

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